%0 Journal Article
%A Kevin Kemp
%A Stefan Wurm
%T EUV lithography
%J Comptes Rendus. Physique
%D 2006
%P 875-886
%V 7
%N 8
%I Elsevier
%R 10.1016/j.crhy.2006.10.002
%G en
%F CRPHYS_2006__7_8_875_0