TY  - JOUR
AU  - Bénédicte Mortini
TI  - Photosensitive resists for optical lithography
JO  - Comptes Rendus. Physique
PY  - 2006
SP  - 924
EP  - 930
VL  - 7
IS  - 8
PB  - Elsevier
DO  - 10.1016/j.crhy.2006.10.010
LA  - en
ID  - CRPHYS_2006__7_8_924_0
ER  -