An introduction to ultimate lithography

Michel Brillouët

doi:10.1016/j.crhy.2006.10.008

An introduction to ultimate lithography

Michel Brillouët ¹

¹ CEA/LETI, Minatec, 17, rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex, France

Comptes Rendus. Physique, Ultimate lithography, Volume 7 (2006) no. 8, pp. 837-840.

Abstract (Original language)
Résumé

Lithography has been the key enabler for scaling feature sizes of integrated circuits, allowing the exponential growth of the semiconductor industry. This article will briefly describe the major challenges of this technology in microelectronics and introduce the review articles presented in this special issue.

La lithographie a été le facteur clé pour réduire les tailles de motifs des circuits intégrés, ce qui a permis une croissance exponentielle de l'industrie du semiconducteur. Cet article décrira brièvement les enjeux majeurs de cette technologie en microélectronique et introduira les revues présentées dans ce dossier.

Published online: 2006-10-01

DOI: 10.1016/j.crhy.2006.10.008

Author's affiliations:

Michel Brillouët ¹

¹ CEA/LETI, Minatec, 17, rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex, France

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TY  - JOUR
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Michel Brillouët. An introduction to ultimate lithography. Comptes Rendus. Physique, Ultimate lithography, Volume 7 (2006) no. 8, pp. 837-840. doi : 10.1016/j.crhy.2006.10.008. https://comptes-rendus.academie-sciences.fr/physique/articles/10.1016/j.crhy.2006.10.008/

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