Comptes Rendus
no. 8
An introduction to ultimate lithography
[Une introduction à la lithographie ultime]
Michel Brillouët1
1 CEA/LETI, Minatec, 17, rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex, France
Comptes Rendus. Physique, Volume 7 (2006) no. 8, pp. 837-840.

La lithographie a été le facteur clé pour réduire les tailles de motifs des circuits intégrés, ce qui a permis une croissance exponentielle de l'industrie du semiconducteur. Cet article décrira brièvement les enjeux majeurs de cette technologie en microélectronique et introduira les revues présentées dans ce dossier.

Lithography has been the key enabler for scaling feature sizes of integrated circuits, allowing the exponential growth of the semiconductor industry. This article will briefly describe the major challenges of this technology in microelectronics and introduce the review articles presented in this special issue.

Publié le :
DOI : 10.1016/j.crhy.2006.10.008
Michel Brillouët 1

1 CEA/LETI, Minatec, 17, rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex, France 
@article{CRPHYS_2006__7_8_837_0,
     author = {Michel Brillou\"et},
     title = {An introduction to ultimate lithography},
     journal = {Comptes Rendus. Physique},
     pages = {837--840},
     publisher = {Elsevier},
     volume = {7},
     number = {8},
     year = {2006},
     doi = {10.1016/j.crhy.2006.10.008},
     language = {en},
}
TY  - JOUR
AU  - Michel Brillouët
TI  - An introduction to ultimate lithography
JO  - Comptes Rendus. Physique
PY  - 2006
SP  - 837
EP  - 840
VL  - 7
IS  - 8
PB  - Elsevier
DO  - 10.1016/j.crhy.2006.10.008
LA  - en
ID  - CRPHYS_2006__7_8_837_0
ER  - 
%0 Journal Article
%A Michel Brillouët
%T An introduction to ultimate lithography
%J Comptes Rendus. Physique
%D 2006
%P 837-840
%V 7
%N 8
%I Elsevier
%R 10.1016/j.crhy.2006.10.008
%G en
%F CRPHYS_2006__7_8_837_0
Michel Brillouët. An introduction to ultimate lithography. Comptes Rendus. Physique, Volume 7 (2006) no. 8, pp. 837-840. doi : 10.1016/j.crhy.2006.10.008. https://comptes-rendus.academie-sciences.fr/physique/articles/10.1016/j.crhy.2006.10.008/

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